三苯基硫鎓鹽是常用的EUV光刻膠光致產(chǎn)酸劑，也具有枝狀結(jié)構(gòu)。佐治亞理工的Henderson課題組借鑒主體材料鍵合光敏材料的思路，制備了一種枝狀單分子樹(shù)脂光刻膠TAS-tBoc-Ts。雖然他們?cè)臼窍胍铣梢环N化學(xué)放大型光刻膠，但根據(jù)是否后烘，TAS-tBoc-Ts既可呈現(xiàn)負(fù)膠也可呈現(xiàn)正膠性質(zhì)。曝光后若不后烘，硫鎓鹽光解形成硫醚結(jié)構(gòu)，生成的光酸不擴(kuò)散，不會(huì)引發(fā)t-Boc的離去；曝光區(qū)域不溶于水性顯影液，未曝光區(qū)域?yàn)殡x子結(jié)構(gòu)，微溶于水性顯影液，因而可作為非化學(xué)放大型負(fù)性光刻膠。曝光后若后烘，硫鎓鹽光解產(chǎn)生的酸引發(fā)鏈?zhǔn)椒磻?yīng)，t-Boc基團(tuán)離去露出酚羥基；使用堿性顯影液，曝光區(qū)域的溶解速率遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于未曝光區(qū)域，因此又可作為化學(xué)放大型正性光刻膠。這個(gè)工作雖然用DUV光刻和電子束光刻測(cè)試了此類(lèi)光刻膠的光刻性能，但由于EUV光刻機(jī)理與電子束光刻的類(lèi)似性，本工作也為新型EUV光刻膠的設(shè)計(jì)開(kāi)辟了新思路。光刻膠的技術(shù)壁壘包括配方技術(shù)，質(zhì)量控制技術(shù)和原材料技術(shù)。江浙滬光聚合型光刻膠顯影

目前國(guó)內(nèi)從事半導(dǎo)體光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)包括晶瑞股份、南大光電、上海新陽(yáng)、北京科華等。相關(guān)企業(yè)以i 線(xiàn)、g線(xiàn)光刻膠生產(chǎn)為主，應(yīng)用集成電路制程為350nm以上。在KrF光刻膠領(lǐng)域，北京科華、博康已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。國(guó)內(nèi)在ArF光刻膠領(lǐng)域產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程相對(duì)較快的企業(yè)為南大光電，其先后承擔(dān)國(guó)家02專(zhuān)項(xiàng)“高分辨率光刻膠與先進(jìn)封裝光刻膠產(chǎn)品關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目”和“ArF光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成為國(guó)內(nèi)通過(guò)客戶(hù)驗(yàn)證的國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠，其他國(guó)內(nèi)企業(yè)尚處于研發(fā)和驗(yàn)證階段。半導(dǎo)體光刻膠其他助劑光刻膠的國(guó)產(chǎn)化公關(guān)正在展開(kāi)，在面板屏顯光刻膠領(lǐng)域，中國(guó)已經(jīng)出現(xiàn)了一批有競(jìng)爭(zhēng)力的本土企業(yè)。

分子玻璃是一種具有較高玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的單分散小分子有機(jī)化合物，其結(jié)構(gòu)為非共面和不規(guī)則，能夠避免結(jié)晶，與產(chǎn)酸劑具有優(yōu)良的相容性。以分子玻璃為成膜樹(shù)脂制備的光刻膠能夠獲得較高的分辨率和較低粗糙度的圖形。金屬氧化物光刻膠使用金屬離子及有機(jī)配體構(gòu)建其主體結(jié)構(gòu)，有機(jī)配體中包含光敏基團(tuán)，借助光敏基團(tuán)的感光性及其引發(fā)的后續(xù)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)光刻膠所需的性能。從化學(xué)組成來(lái)看，金屬氧化物光刻膠主要為稀土和過(guò)渡金屬有機(jī)化合物。

有研究結(jié)果表明，在EUV光照下，某特定光刻膠分子每吸收一個(gè)光子可以產(chǎn)生2.1個(gè)活性物種，這一效率分別是KrF光刻和ArF光刻的6倍和15倍。由于在光刻膠材料中有二次電子的產(chǎn)生，EUV光刻在機(jī)理上與電子束光刻有相近之處。因?yàn)樯逃肊UV光刻機(jī)價(jià)格昂貴，對(duì)光刻膠材料研發(fā)人員開(kāi)放的同步輻射EUV干涉線(xiàn)站機(jī)時(shí)有限，所以近年來(lái)，在EUV光刻膠的研發(fā)過(guò)程中也常利用電子束光刻開(kāi)展相關(guān)機(jī)理、工藝研究和基本性能的評(píng)測(cè)，也有一些尚未實(shí)際應(yīng)用于EUV光刻但已有電子束光刻研究結(jié)果的光刻膠。根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域不同，光刻膠可分為 PCB 光刻膠、LCD 光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠，技術(shù)門(mén)檻逐漸遞增。

非常常見(jiàn)的單分子樹(shù)脂化合物的分子拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)有枝狀（或星形）、環(huán)狀（包括梯形）、螺環(huán)狀以及四面體結(jié)構(gòu)等等。其主要結(jié)構(gòu)通常為具有非對(duì)稱(chēng)、非平面的組分。對(duì)于化學(xué)放大光刻膠，芳香環(huán)上會(huì)連有酸敏離去基團(tuán)保護(hù)的酸性官能團(tuán)。非對(duì)稱(chēng)、非平面結(jié)構(gòu)可以防止體系因π-π堆積而結(jié)晶，芳香環(huán)的剛性可以確保光刻膠具有較好的熱穩(wěn)定性、玻璃化轉(zhuǎn)變溫度和抗刻蝕性，酸敏可離去基團(tuán)則可在光酸的作用下使酸性官能團(tuán)裸露出來(lái)，實(shí)現(xiàn)溶解性的改變。聚合度越小，發(fā)生微相分離的尺寸越小，對(duì)應(yīng)的光刻圖形越小。江蘇彩色光刻膠顯示面板材料

在PCB行業(yè)：主要使用的光刻膠有干膜光刻膠、濕膜光刻膠、感光阻焊油墨等。江浙滬光聚合型光刻膠顯影

浸沒(méi)光刻：在與浸沒(méi)光刻相對(duì)的干法光刻中，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。在浸沒(méi)光刻中，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體。光刻光源發(fā)出的輻射經(jīng)過(guò)這些液體的時(shí)候發(fā)生了折射，波長(zhǎng)變短。這樣，在不改變光源的前提條件下，更短波長(zhǎng)的紫外光被投影光刻膠上，提高了光刻加工的分辨率。雙重光刻：雙重光刻的意思是通過(guò)兩次光刻使得加工分辨率翻倍。實(shí)現(xiàn)這個(gè)目的的一種方法是在開(kāi)始光刻過(guò)后平移同一個(gè)光罩進(jìn)行第二次光刻，以提高加工分辨率。下圖右展示了這樣一個(gè)過(guò)程。下圖右中雙重光刻子進(jìn)行了兩次涂膠，兩次光刻和兩次刻蝕。隨著光刻膠技術(shù)的進(jìn)步，只需要一次涂膠，兩次光刻和一次刻蝕的雙重光刻工藝也成為可能。江浙滬光聚合型光刻膠顯影

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